듀얼 타겟 스퍼터 코터 Q300T D Plus｜SEM·FE-SEM용 다층 박막 증착 시스템

전자현미경(SEM, FE-SEM) 분석에서는 시료의 표면 상태와 전도성이 이미지 품질에 직접적인 영향을 미칩니다.

 

특히 나노소재, 반도체, 박막 연구 분야에서는 단순 금속 코팅이 아닌 서로 다른 금속층을 조합한 다층 박막 형성이 요구되는 경우가 많습니다.

 

Q300T D Plus Dual Target Sputter Coater는 두 개의 독립 스퍼터 헤드를 장착하여 진공을 해제하지 않고 서로 다른 금속을 연속 증착할 수 있는 고급형 스퍼터 코팅 시스템입니다.

 

Gold(Au)와 Chromium(Cr) 타겟을 기본 제공하며, 최대 Ø150mm 시료까지 처리할 수 있어 연구소, 대학, 국가연구기관 및 반도체 연구 분야에서 널리 활용되고 있습니다.

◎ 제품특징

①  듀얼 타겟 스퍼터링 지원

독립 스퍼터 헤드 2개 장착

진공 유지 상태에서 연속 증착 가능

다층 박막 형성 연구에 최적

 

②  고진공 터보 펌프 시스템

Turbo Molecular Pump 적용

진공도 5 × 10⁻⁵ mbar

균일한 박막 형성 지원

 

③  Gold(Au) + Chromium(Cr) 기본 제공

대표적인 SEM 전처리용 금속 지원

우수한 전도성 확보

고해상도 관찰 가능

 

④  최대 Ø150mm 시료 대응

대형 시료 코팅 가능

연구 및 산업 현장 활용성 향상

 

⑤ 정전식 컬러 터치스크린

직관적인 조작

자동 진공 제어 기능 제공

 

⑥ 레시피 저장 기능

1,000개 이상 저장 가능

반복 실험 조건 관리 용이

 

⑦ 데이터 저장 및 관리

USB 지원

CSV Export 가능

연구 데이터 추적 관리 가능

 

⑧ 안전장치 기본 적용

인터락 기능

과열 보호

Implosion Guard 적용

CE 규격 대응

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 일반 스퍼터 코터 vs 듀얼 타겟 스퍼터 코터 

비교 항목	일반 스퍼터 코터	Q300T D Plus
스퍼터 헤드	1개	2개
금속 변경	진공 해제 필요	연속 증착 가능
다층 박막	제한적	우수
연구 활용성	일반 연구	고급 연구
생산성	보통	높음
공정 재현성	보통	우수
레시피 저장	일부 지원	1,000개 이상

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🎯Q300T D Plus 추천 대상 

✔ 다층 박막 연구

✔ 반도체 소재 개발

✔ 나노소재 연구

✔ FE-SEM 분석

✔ 전자재료 연구

✔ 국가 연구과제 수행

✔ 고급 박막 증착 연구

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📚 듀얼 타겟 스퍼터링이란?

일반 스퍼터 코터는 하나의 금속 타겟만 사용합니다.

반면 듀얼 타겟 시스템은 두 종류의 금속을 하나의 공정 안에서 순차적으로 증착할 수 있습니다.

예를 들어,

• Cr → 접착층 형성
• Au → 전도층 형성

과 같은 구조를 진공을 깨지 않고 구현할 수 있습니다.

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📌 왜 Cr/Au 조합을 많이 사용할까?

 Chromium (Cr) 

• 우수한 접착력
• 기판 밀착성 향상

 Gold (Au) 

• 높은 전도성
• SEM 이미지 품질 향상

따라서 Cr/Au 다층 구조는 전자현미경 분석에서 매우 널리 사용됩니다.

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📌 FE-SEM에서는 왜 고진공이 중요한가?

FE-SEM은 일반 SEM보다 훨씬 높은 분해능을 제공합니다.

이때 박막 두께의 균일성과 표면 상태가 매우 중요하며,

Q300T D Plus의 고진공 터보 펌프 시스템은 이러한 요구사항에 적합한 증착 환경을 제공합니다.

 

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📌 다층 박막 연구가 중요한 이유

최근 반도체, 센서, 배터리, 광학소자 연구에서는 단일 금속층보다 여러 층을 조합한 구조가 성능 향상에 핵심 역할을 합니다.

듀얼 타겟 시스템은 이러한 첨단 소재 연구의 생산성과 재현성을 높여줍니다.

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◎ 연구 및 실험 적용 분야

분야	활용 내용
SEM 분석	전도성 코팅
FE-SEM 분석	초미세 박막 형성
반도체 연구	다층 금속 박막 증착
나노소재 연구	표면 개질 및 코팅
전자재료 연구	전극 코팅
재료공학	박막 특성 연구
대학 연구실	증착 실험
국가연구기관	고진공 박막 연구

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◎ 제품사양

모델명	Q300T D Plus
제품명	Dual Target Sequential Sputter Coater
코팅 방식	Magnetron Sputtering
진공도	5 × 10⁻⁵ mbar
스퍼터 헤드	독립형 2개
기본 타겟	Gold(Au), Chromium(Cr)
타겟 직경	57 mm
최대 시료 크기	Ø150 mm
디스플레이	정전식 컬러 터치스크린
데이터 저장	USB 지원
레시피 저장	1,000개 이상
메모리	16GB Flash
진공 제어	자동 제어
펌프 시스템	Turbo Molecular Pump
공정 기록	CSV Export
안전장치	인터락, 과열보호, Implosion Guard
인증	CE 규격 대응
옵션	Dual Film Thickness Monitor (FTM)

 

 

 

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